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国产光刻机28nm工艺来了!

2020-06-08| 来源:互联网| 查看: 317| 评论: 0

摘要: 原标题:国产光刻机28nm工艺来了!来源:21ic最近,半导体制造被卡脖子的消息引发业界极大关注,其中一个重量......

上海期货交易所首页原标题:国产光刻机28nm工艺来了! 来源:21ic

上海期货交易所首页最近,半导体制造被卡脖子的消息引发业界极大关注,其中一个重量级设备就是光刻机。不过,最近一个好消息是,国产光刻机真的要来了,上海微电子装备(集团)股份有限公司披露,将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产的沉浸式光刻机。

首先,虽然不及14nm、7nm甚至5nm先进,但28nm工艺仍然是当下半导体制造的主流工艺。

上海期货交易所首页作为IC制造的前道工艺,光刻是其中非常重要的一项操作,据有关数据显示,光刻在IC制造中所占的时间长,而光刻机在半导体整体制造设备成本中占比也高达第一位,约为27%。

因此,28nm光刻机国产化对国内半导体晶圆厂和即将上马的半导体晶圆厂都是一个极大的利好消息。

上海期货交易所首页21IC家了解到,上海微电子成立于2002年,是国内技术领  先的光刻设备厂商。

上海期货交易所首页上海微电子现有4大系列的光刻机产品,其中600系列步进扫描投影光刻机面向IC前道制造,采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术,以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术,可用于90nm、110nm、280nm工艺和200mm、300mm晶圆生产。

上海期货交易所首页500系列面向IC后道先进封装,300系列面向LED、MEMS、功率器件制造,200系列面向TFT曝光。

责任编辑:刘婷婷

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